次世代半導体用大面積2次元チャネル材料を韓国UNISTが開発 IT総合 2021.03.19 韓国の蔚山科学技術大学校(UNIST)の半導体研究チームが2D半導体素材をシリコンウェハ全面へ広く均等に成長させる技術の開発に成功したことを発表した。imec、2nmフォークシートデバイスや2D材料をリンク元
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