次世代半導体用大面積2次元チャネル材料を韓国UNISTが開発

2017-08-24_00h03_35 IT総合
韓国の蔚山科学技術大学校(UNIST)の半導体研究チームが2D半導体素材をシリコンウェハ全面へ広く均等に成長させる技術の開発に成功したことを発表した。imec、2nmフォークシートデバイスや2D材料を

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