EVG、バックエンドリソグラフィ向けマスクレス露光技術を開発

2017-08-24_00h03_35 IT総合
オーストリアに本拠を置く半導体製造装置メーカーであるEV Group(EVG)は、先端パッケージング向けに新しいマスクレス露光技術(MLE:Maskless Exposure)を開発し、近く発売を予定

リンク元

コメント

タイトルとURLをコピーしました