imec、有機ELの陰極パターンをリソグラフィで形成することに成功

2017-08-24_00h03_35 IT総合
独立系ナノテク研究機関であるベルギーimecが、従来のファインメタルマスク(FMM)を用いた蒸着法ではなく、フォトリソグラフィを用いて有機半導体と有機EL(OLED)パネル積層構造のカソードのパターン

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