KLA、先端半導体の歩留まり向上を可能とするウェハ検査装置2機種を発表

2017-08-24_00h03_35 IT総合
米国の半導体製造装置メーカー大手KLAは、最先端プロセスを採用したロジック半導体ならびに半導体メモリの製造歩留まりを向上させることを可能とする検査装置として、パターン無しシリコンウェハ表面欠陥検査装置

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