ロシアがASMLに対抗するべく独自のEUV露光装置を開発開始

2017-08-24_00h03_35 ガジェット総合
「EUV露光装置」は最先端半導体の製造に必要不可欠な装置で、オランダ企業のASMLが大きなシェアを握っています。新たに、ロシアがASMLに依存しない独自のEUV露光装置開発計画を作成しました。計画では

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