Samsung、FinFETからGAA FETへの移行を3nm世代へ後ろ倒し ~EUV露光の7nmプロセスは年内に生産準備完了を予告

2017-08-24_00h03_35 ガジェット総合
 韓国Samsung Electronics(以下Samsung)は22日(米国時間)、「Samsung Foundry Forum 2018 USA」にて、3nmプロセス技術までのロードマップを公開

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