キヤノン、NIL向け量産用テンプレートのレプリカ製造装置を発表

キヤノンは2月23日、ナノインプリントリソグラフィ(NIL)用テンプレートを製造する量産用マスクレプリカ製造装置「FPA-1100NR2」を製品化したと発表した。
NILを用いた半導体デバイスの量産

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